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等離子清洗設(shè)備清洗工藝較之傳統(tǒng)的濕法清洗,其優(yōu)勢(shì)在哪?

更新時(shí)間:2018-07-30      點(diǎn)擊次數(shù):1581
   等離子清洗設(shè)備又可稱之為等離子表面處理儀,它的出現(xiàn)代表著一種全新的高科技技術(shù),利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。那么問(wèn)題來(lái)了,它到底比常規(guī)的濕法清洗多了哪些優(yōu)勢(shì)呢?
  等離子清洗設(shè)備等離子清洗與傳統(tǒng)使用有機(jī)溶劑的濕法清洗相比,等離子清洗具備以下優(yōu)勢(shì):
  一、采用無(wú)線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強(qiáng),這使得它可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù),因此不需要過(guò)多考慮被清洗物體的形狀。而且對(duì)這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果像是甚至更好;
  二、使用等離子清洗,可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個(gè)清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成,因此具有產(chǎn)率高的特點(diǎn);
  三、清洗對(duì)象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的,不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以整個(gè)工藝流水線的處理效率;
  四、等離子清洗使得用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對(duì)人體的傷害,同時(shí)也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對(duì)象的問(wèn)題;
  五、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa,這種清洗條件很容易達(dá)到。因此這種裝置的設(shè)備成本不高,加上清洗過(guò)程不需要使用價(jià)格較為昂貴的有機(jī)溶劑,這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝;
  六、等離子體清洗可以不分處理對(duì)象,它可以處理各種各樣的材質(zhì),無(wú)論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物,還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物)都可以使用等離子體來(lái)處理。
  因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對(duì)材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗;
  七、使用等離子清洗,避免了對(duì)清洗液的運(yùn)輸、存儲(chǔ)、排放等處理措施,所以生產(chǎn)場(chǎng)地很容易保持清潔衛(wèi)生;
  八、在完成清洗去污的同時(shí),還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤(rùn)濕性能、改善膜的黏著力等,這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。
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